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钛靶材 TA1钛靶块 高纯度 溅射靶材 纯海绵钛生产

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详细说明

    钛 靶

一、牌号

国内牌号:TA1、TA2、TA7、TA9、TA10、TC11 。

美标牌号:GR1、GR2、GR7、GR12。

二、靶材的主要性能要求:

(1)纯度

纯度是靶材的主要性能指标之一,因为靶材的纯度对薄膜的性能影响很大。不过在实际应用中,对靶材的纯度要求也不尽相同。

(2)杂质含量

靶材固体中的杂质和气孔中的氧气和水气是沉积薄膜的主要污染源。不同用途的靶材对不同杂质含量的要求也不同。例如,半导体工业用的纯铝及铝合金靶材,对碱金属含量和放射性元素含量都有特殊要求。

(3)密度

为了减少靶材固体中的气孔,提高溅射薄膜的性能,通常要求靶材具有较高的密度。靶材的密度不仅影响溅射速率,还影响着薄膜的电学和光学性能。靶材密度越高,薄膜的性能越好。此外,提高靶材的密度和强度使靶材能更好地承受溅射过程中的热应力。密度也是靶材的关键性能指标之一。

(4)晶粒尺寸及晶粒尺寸分布

通常靶材为多晶结构,晶粒大小可由微米到毫米量级。对于同一种靶材,晶粒细小的靶的溅射速率比晶粒粗大的靶的溅射速率快;而晶粒尺寸相差较小(分布均匀)的靶溅射沉积的薄膜的厚度分布更均匀。

三、加工工艺

锻造、轧制。

四、表面

车光、倒角。表面清洁光滑,无起皮,气孔,裂纹等缺陷。

五、规格

Φ100*40,Φ98*40,Φ95*45,Φ90*40,Φ85*35,Φ65*40较常见,其他规格可按客户要求制作。

六、执行标准

国标:GB/T 16598,GB/T2965 。

美标:ASTM B381,ASTM F67,ASTMF136, ASTM B348。

七、检测

破坏性检测:物理性能测试,硬度测试,化学成分测试。

无损检测:超声检测,渗透检测,外观检测。

 
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